人工知能（AI）など大量の情報処理が求められる先端半導体の製造に欠かせない「EUVリソグラフィー（極端紫外線露光装置）」の大幅な省エネやコスト削減を図る技術を、沖縄科学技術大学院大学（OIST）の新竹積教授（物理工学）が開発した。装置で使用する反射鏡を従来の10枚から4枚に減らし、消費電力を10分の1に抑えた。実用化できれば1社独占の技術に一石を投じ、先端半導体製造分野で日本勢が巻き返す可能性も秘めているという。
先端半導体は、AIのサーバーやスマートフォン、パソコンのメモリなどに使われる小型のチップ。高密度の論理回路をシリコンウエハー上に書き込む必要があり、EUV露光装置を使う。従来はEUV光源から出た波長の短い光を10枚の鏡に反射させながら、フォトマスクと呼ばれる原版の回路パターンを、プロジェクターを使って1辺10ミリメートルのシリコンウエハーに転写している。オランダの半導体製造装置大手ASMLホールディングだけがこの技術を持っており、各半導体メーカーに独占販売する状況が続く。
ただ、鏡は1回反射するごとにEUVのエネルギーが40...
